*工業(yè)清洗市場(chǎng)在*處于*地位，其中，從工業(yè)清洗業(yè)務(wù)類(lèi)型看，清洗裝備占半數左右，清洗咨詢(xún)、加工處理和干燥系統各占*份額。

隨著(zhù)工業(yè)4.0在*的逐步推進(jìn)和實(shí)施，*尤其是德*制造企業(yè)在升*中*速成長(cháng)。其產(chǎn)*的*產(chǎn)工藝的密集程度*、單個(gè)*件體積小、*件總量大等*點(diǎn)，使得通用型多件清洗解決方案成為其*產(chǎn)*節中不可或缺的**，大大拓寬了通用型多件清洗解決方案的市場(chǎng)*間。

*工業(yè)清洗市場(chǎng)在*的份額與*市場(chǎng)大致相當，主要面向*的制造業(yè)和中*端工業(yè)，依托*發(fā)達的飛機制造、航*航天、醫*、電子、汽車(chē)的本土市場(chǎng)、強勢地位和*速發(fā)展，對各類(lèi)清洗解決方案的需求將不斷增加。

*工業(yè)清洗市場(chǎng)在*的份額不斷增加，并以*市場(chǎng)為主導。隨著(zhù)*制造產(chǎn)業(yè)升*的逐步實(shí)施以及*本土企業(yè)在中*端制造業(yè)不斷取得突破，*工業(yè)清洗市場(chǎng)還將取得跨越式發(fā)展。

市場(chǎng)格局:日系占據主導地位,*產(chǎn)企業(yè)奮起直追。1)假設清洗設備晶占晶圓制造設備的比重穩定,我們粗略計算出*半導體清洗設備 2019-2021年的市場(chǎng)規模分別約為28.68、29.18、32.06億美元。2)*來(lái)半導體清洗設備行業(yè)增長(cháng)的驅動(dòng)力包括三部分:*方面是隨著(zhù)工藝的不斷升*、制造流程增多,清洗頻*也將有所增加,清洗設備的需求量將不斷提升;

*是集成電路制造工藝升*,芯片結構越發(fā)*雜、清洗難度升*,如 3D 結構等需要在對芯片*傷情況下對內部結構進(jìn)行清洗;三是集成電路新型材料的出現,也對清洗工藝提出了新的需求。3)從清洗設備的配備數量來(lái)看,通常 4*片產(chǎn)能的產(chǎn)線(xiàn)上,8英寸線(xiàn)需要配備 50臺左右、12英寸線(xiàn)需要 70臺左右,*外部分廠(chǎng)商可以達到 120臺的配備,包括槽式晶圓清洗設備和單片晶圓清洗設備。價(jià)格方面,6-8個(gè)腔體的單片晶圓清洗設備價(jià)格在 300-400*美元/臺,槽式價(jià)格大概在 100-200*美元/臺。